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股票代碼:002819

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SENTECH Depolab200 經濟型等離子增強化學氣相沉積設備(可升級)

sentech Depolab200 經濟型等離子增強化學氣相沉積設備(可升級)
Cost-effectiveness 經濟實惠
PECVD plasma deposition tool Depolab 200 combines parallel plate plasma source design with direct load.
PECVD 等離子沉積機臺Depolab 200延續了帶有直接裝載裝置的平行板等離子源的設計。
Upgradeability 升級能力
基于模塊化的設計,Depolab 200可以用增加更大的泵、低頻電源和附加氣路等方法升級。
SENTECH control software SENTECH控制軟件
控制軟件包括模擬用戶界面,參數窗口,工藝程序編輯器,數據記錄和用戶管理。

Depolab 200是具有SENTECH平板電極設計優勢的PECVD機臺,可實現2至8寸晶圓及小樣品的標準工藝,并可通過升級滿足復雜工藝要求。
Depolab 200在結構、可靠性和軟硬件靈活性上均有杰出的的設計。在此系統上研發出不同的工藝,例如高質量氧化硅和氮化硅膜工藝。Depolab 200由帶氣源箱的反應器、控制電路、計算機、初級泵和主接線箱組成。
Depolab 200等離子沉積機臺適用于SiO2, SiNx, SiONx和a-Si薄膜的沉積,最高溫度為400°C。Depolab尤其適用于沉積刻蝕掩膜用介質膜、薄膜和介電膜的沉積。
The Depolab 200可以通過用戶友好的SENTECH控制軟件界面進行遠程操作。